型号1051

TEM轧机
  • 快速铣削的高能操作;低能耗的样品抛光操作
  • 两个独立可调TrueFocus离子源
  • 离子源在很大的工作能量范围内(100 eV至10 keV)保持其小束直径
  • 连续可调铣削角度范围-15至+10°
  • 可调10英寸触摸屏,用户友好的界面,简单设置铣削参数
  • 标本夹在x - y调整
  • 现场观察和图像捕获期间铣削
  • 液氮冷却试件阶段

先进的样品制备

TrueFocus离子源链接对当今许多先进材料来说,透射电镜分析是研究材料结构和性能的最佳技术。188bet体育国际Fischione仪器的1051型TEM磨是一个创建薄的,电子透明的样品需要TEM成像和分析的优秀工具。

低入射角度的离子铣削,结合低能离子源操作,最大限度地减少辐照损伤和样品加热。由于低角度铣削有利于异种材料的均匀减薄,因此在制备层状或复合材料以及TEM (XTEM)横截面试样时,低角度铣削非常有利。

3样品安装

TEM磨的样品夹设计允许很容易的样品加载。试样夹可容纳双面铣削至0°,没有试样阴影。因为样品被固定在支架上,所以不会有粘接剂污染样品的可能性。装载站为试样提供一个平台,使其可以很容易地定位在试样固定器中。

X-Y可调试样夹和对准台(可选)

对于需要x-y调整能力的客户,我们还可以提供额外的样品架和装载站。如果感兴趣的区域偏离了旋转轴,您可以调整样品的x-y位置来优化铣削。

快速样品转移

1051型标本夹TEM磨机的特点是真空负载锁定快速样品交换。负载锁定是人体工程学设计;只需抬起负载锁盖,就可以将标本夹加载到工作台上。

更换盖和疏散负荷锁定发生在几秒钟内。在离子铣削过程中,真空固定负载锁定盖。然后一个电子控制的升降机将样品移动到铣削位置。

在铣削过程结束时,试样保持器返回到负载锁定,但保持在真空状态,直到用户排气。发泄只需要几秒钟。在排气后,可以快速地将样品转移到TEM样品固定器中,从而降低了环境污染的可能性。

真空传输胶囊(选配)

一个可选的真空胶囊允许你转移样品到TEM下的真空或惰性气体。

瞬变电磁法磨机的真空室在运行过程中保持在连续真空状态。负载锁定隔离高真空室从环境样品交换期间,确保最佳的真空条件。

精确的角度调整

倾斜离子源以提供所需的铣削角度。连续可调离子源倾斜角度范围从-15°到+10°。这种扩展的倾斜角度范围适用于安装在有槽网格上的样品。使用左右离子源控制来调整离子源角度。

您可以选择使用其中之一或两者TrueFocus离子源。如果你同时使用两个离子源,你可以独立地调整束流角度。您也可以选择离子磨其中一个或两个样品表面。

当两束离子束都指向样品的一个表面时,铣削速率增加了一倍;这一能力是有用的应用,如背面减薄或平面抛光的样品。188金宝搏亚洲体育与真人20如果设置离子源同时磨两种样品表面,就可以避免溅射材料的再沉积。

自动铣削角度调整(选配)

使用触摸屏的自动铣削角度调整是TEM铣削的一个可用选项。添加此功能使您能够创建多个步骤的铣削序列,包括在整个铣削过程中自动调整铣削角度。

可编程的标本运动

标本在平面内连续旋转360°。

TEM磨是理想的适合准备XTEM样品的非均质或层状材料。与离子束相关的试样运动控制使优先铣削最小化,当XTEM试样中存在胶键线或层状复合试样中包含较低原子数(Z)材料时,优先铣削可能发生。

当铣削样品的底面时,离子束测序通过与离子束一致的角度旋转标本支架,中断了离子流向样品。这样可以避免样品夹溅射。样品也可以相对于离子束摇晃,使界面或胶线永远不会平行于离子束的方向。通常采用的摇摆角度为±40至±60˚。

集成级冷却(选配)

虽然低角度铣削与低离子束能量降低了样品加热,温度敏感的样品可能需要进一步冷却。液氮冷却的样品阶段是非常有效的消除热诱导伪影。

TEM Mill的液氮系统的特点是一个杜瓦瓶位于完全集成和互锁的外壳内。杜瓦瓶放置在操作人员附近,便于操作。两种杜瓦可供选择:一个标准杜瓦需要3到5小时的冷却过程中离子磨,或一个扩展杜瓦需要18小时以上的低温条件下的188金宝搏亚洲体育与真人20应用。温度连续显示在触摸屏上。

可编程的温度
SEM磨机提供编程和保持环境和低温之间的特定温度的能力。在低温铣削结束时,阶段温度自动提高到环境温度,然后再排气,以避免样品霜冻和污染。

可以将热保护程序设定为特定的温度阈值,当杜瓦瓶中的液氮耗尽时,离子源将失活。

自动终止

离子铣削过程可以自动终止经过的时间,温度,或由一个可选的激光光探测系统。

原位标本观察

当使用可选的立体或高倍显微镜时,离子磨铣过程可以在磨铣位置进行原位监测。

观察窗口由百叶窗保护,这可以防止溅射材料的积累,可能会干扰标本观察。

立体显微镜(可选)
立体显微镜(7到45倍)增强观察标本。该显微镜的长工作距离允许在铣削时原位观察样品。

高倍显微镜(选配)
TEM磨粉机可以配置一个1960倍的高倍显微镜,与CCD相机和视频监视器相结合,在磨粉过程中查看样品和现场捕获图像。该系统是制备特定部位标本的理想方法。

标本照明
放置在样品下方的灯为用户提供可调节的透射样品照明。

高倍和立体显微镜都有光源,提供自顶向下,用户可调,反射样品照明。

触摸屏控制

铣削参数通过一个10英寸的触摸屏输入,可以调整到您的首选高度和观看角度。从触摸屏,您可以控制各种仪器参数,如离子束能量,铣削角度,标本运动,标本位置,和过程终止。

对于自动化,无人值守的操作,您可以编程一系列的铣削序列。一种典型的方法是开始快速铣削,以去除大量的试样材料;然后,随着样品变薄,一个较低的铣削速度来抛光样品。这些铣削序列可以很容易地存储和召回,以供将来使用。

在铣削作业过程中,铣削顺序进度和仪器状态实时显示在触摸屏上。

先进的功能包括管理标本数据、维护和日志文件、图像存储的工具,以及远程访问,如果TEM磨机与您的企业内联网,您可以通过远程计算机监督铣削操作。

对仪器配置、管理和诊断工具以及维护和日志文件的访问,是通过授予不同用户级别的特权和需要的登录凭据来控制的。

堆叠灯系统状态指示灯(可选)
一个可选的堆叠灯允许您从房间的另一端查看系统状态。

燃气自动控制

两个质量流量控制器提供独立和自动调节的过程气体离子源。气体控制算法在多种离子源铣削参数下产生稳定的离子束。

全集成干式真空系统

集成的真空系统包括一个涡轮分子阻力泵背后的多级隔膜泵。这种无油系统确保了一个清洁的环境样品处理。

因为气体要求TrueFocus离子源由于体积小,70 LPS涡轮分子阻力泵产生的操作系统真空约为5 × 10-4 mbar。真空水平测量用冷阴极,全量程压力表,并连续显示在触摸屏上。

最小的维护

由于其电离效率高,维护效率高TrueFocus离子源是最小的,组件有一个极长的寿命。从离子源溅射出的材料可以忽略不计,将样品污染和组件维护降低到最小。自动快门可防止溅射材料在观察窗上堆积。所有系统部件都很容易进行日常清洗。

远程诊断
188bet体育国际Fischione Instruments致力于支持最大的仪器正常运行时间。为此,TEM磨机内置了远程诊断功能。当连接到Internet时,TEM Mill可以通过Fischione Global Service远程访问,以提供快速故障排除和诊断支持。188bet体育国际

服务和预防性维护
欲了解更多Fischione全球服务的全188bet体育国际面服务和预防性维护计划,请联系188bet体育国际Fischione全球服务